氣(qi)氛爐中不同氣氛(fen)對硅碳棒(bang)的(de)影響

   隨著需控制真空氣氛(fen)(fen)爐(lu)氣氛(fen)(fen)要(yao)求的增加，關于在不同(tong)氣氛(fen)(fen)中使(shi)用硅碳棒的注(zhu)(zhu)意(yi)事項(xiang)也(ye)變(bian)得越來越重要(yao)。而且，在燒成中與處理(li)物(wu)揮發出來的各種化學物(wu)質之間的反應也(ye)同(tong)樣需要(yao)注(zhu)(zhu)意(yi)。

    所(suo)以(yi)，針對特殊氣(qi)氛和腐蝕(shi)性物質，我公司開發了各種防(fang)止(zhi)硅碳(tan)棒快速老化的涂(tu)層(ceng)。選用適當(dang)的涂(tu)層(ceng)可以(yi)延(yan)長(chang)硅碳(tan)棒的壽命。無論在哪種氣(qi)氛中都(dou)讓表面負荷盡(jin)量小。

    氣(qi)氛影響對策涂層水蒸(zheng)氣(qi)和濕氣(qi)比在干燥大(da)氣(qi)中的使用壽命縮短(duan)1/5新真空氣氛爐試運行或者舊爐子長(chang)時(shi)間不工作再(zai)使用時(shi)，要(yao)先低(di)溫充分(fen)干燥(zao)后再(zai)升(sheng)溫。
   U涂層氫氣(qi)硅碳棒溫度(du)上升到1350℃以后電阻急速增加，機械強度(du)也(ye)下(xia)降。而且根據氣(qi)體干濕的(de)不同(tong)壽命也(ye)差別很大。
建議在真空(kong)氣氛爐溫(wen)度為1300℃以(yi)下的(de)狀態下使用。表面負(fu)荷盡量(liang)小（5W/cm2）。
  氮(dan)(dan)氣溫度(du)超過1400℃時氮(dan)(dan)氣與(yu)碳(tan)(tan)化硅反應生成(cheng)氮(dan)(dan)化硅，使硅碳(tan)(tan)棒變脆，壽命縮短。受露點的影(ying)響與(yu)氫氣的狀況相(xiang)同建議在真(zhen)空氣氛爐(lu)溫度(du)為1300℃以下的狀態下使用(yong)。表面負荷盡量小（5W/cm2）。
  N涂層氨(an)氣(qi)(qi)（H275%）、（N225%）與(yu)氫(qing)氣(qi)(qi)、氮(dan)氣(qi)(qi)的狀況(kuang)相同。
  建議在真空氣氛(fen)爐(lu)溫度為(wei)1300℃以(yi)下的(de)狀態(tai)下使用。表(biao)面負荷盡(jin)量(liang)小。
 ; N涂層(ceng)分解反應(ying)氣體（N2、CO、CO2、H2、CH2混(hun)合物）加(jia)熱過程中硅(gui)碳棒表面附著分解后的碳黑(hei)，造成棒體疏(shu)松。
  經常(chang)向真(zhen)空氣(qi)氛爐(lu)輸(shu)送空氣(qi)，讓多(duo)余的碳燃(ran)燒(shao)。在真(zhen)空氣(qi)氛爐(lu)構造方(fang)面，保持硅碳棒間足(zu)夠的間隔以防止短路。
  N涂層硫（S、SO2）硅(gui)碳棒溫(wen)度升到1300℃以后(hou)，硅(gui)碳棒表面被侵蝕、電阻急劇(ju)增(zeng)加。
  將硅碳棒溫(wen)度(du)控制在1300℃以下。
  N涂層其他(ta)由被處理物(wu)產生的各種物(wu)質(zhi)，如鉛、銻、堿(jian)金(jin)屬的化合物(wu)與(yu)硅碳棒反應，使其壽命縮短(duan)。
  預先(xian)將這些物質從處(chu)理(li)物中除(chu)掉(diao)，真空氣(qi)氛爐設排氣(qi)口以便減弱其影(ying)響。
  H涂(tu)層S涂(tu)層。