1200℃高校實驗坩堝爐訂做主要用途：
AFD-1200-LG坩(gan)堝爐各項指標(biao)均(jun)達(da)到了水平，主要用于煅燒真空或惰(duo)性氣體保護下的(de)高(gao)純度化合(he)物或擴散半導體晶片，也可用于烘燒或燒結(jie)陶(tao)瓷材料(liao)。
1200℃高校實驗坩堝爐訂做技術參數：
產品名稱 | 1200℃高校實驗(yan)室坩(gan)鍋(guo)爐 |
產品型號 | AFD-1200-LG |
爐膛有效尺寸 | 200x200mm（更多尺(chi)寸可(ke)供選擇） |
正常工作溫度 | 1100℃ |
溫度 | 1200℃ |
溫控系統 | 30段PID微電腦(nao)可編程自(zi)動控制(zhi) （溫(wen)度控制(zhi)系統采用人(ren)工智能(neng)調節技(ji)術(shu)，具有PID調節、自(zi)整定(ding)功能(neng)，并可編制(zhi)30段升降溫(wen)程序）（用戶可選配液晶觸摸屏顯示） |
控溫度 | ±1℃ |
溫控保護 | 具有超溫(wen)和斷(duan)偶保(bao)護功能 |
加熱速率 | 0~20℃/分 |
加熱元件 | 合金電阻絲 |
工作電壓 | AC 220V 單相 50HZ （電(dian)路電(dian)壓用(yong)戶可(ke)選(xuan)擇定制(zhi)） |
大功率 | 3KW |
溫度測試元件 | K型熱(re)電偶測溫(wen)，正后方測溫(wen) |
| 爐殼溫度 | ≤45℃ |
凈重 | 80KG |
提供相關配件 | 坩堝鉗、高溫(wen)手套、熱電(dian)偶、門堵(du) |
電氣認證 | CE認證 |
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