產品介紹

AFDJ-1200系列井式真空坩堝爐是由石英坩堝（或氧化鋁陶瓷坩堝）和不銹鋼法蘭組成的真空坩堝爐。主要用于煅燒真空或惰性氣體保護下的高純度化合物或擴散半導體晶片，也可用于烘燒或燒結陶瓷材料。

AFDJ-1200系(xi)(xi)列真空坩(gan)堝爐以(yi)進口含鉬(mu)電阻絲或(huo)者(zhe)硅(gui)碳棒(bang)或(huo)硅(gui)鉬(mu)棒(bang)為加熱元件，采用雙層(ceng)殼體(ti)結構和(he)智(zhi)能(neng)化(hua)程序(xu)控(kong)溫系(xi)(xi)統，移相觸發、可控(kong)硅(gui)控(kong)制，爐膛(tang)采用氧化(hua)鋁(lv)多晶體(ti)纖維材料，雙層(ceng)爐殼間配有(you)風冷系(xi)(xi)統，能(neng)快(kuai)速升降溫，具(ju)有(you)真空裝置，該爐具(ju)有(you)溫場(chang)均衡(heng)、表面(mian)溫度低、升降溫度速率快(kuai)、節能(neng)等優點。

AFDJ-1200系列井式真空坩堝爐工作溫度區間800℃至1200℃。該系(xi)列設備的控(kong)制系(xi)統，具有(you)安全可靠(kao)，操作簡單，控(kong)溫(wen)精度高，保(bao)溫(wen)效果好(hao)，爐膛溫(wen)度均勻性高，可通(tong)氣氛抽(chou)真(zhen)空等(deng)(deng)特點，廣泛應用于(yu)高等(deng)(deng)院校(xiao)，科研院所等(deng)(deng)

產(chan)品型號  AFDJ-V1200

工作電源  AC220V 50/60HZ

爐(lu)膛尺寸  外徑205x內徑190x高(gao)340mm

額定功率  ≤3kw

外形尺(chi)寸(cun)  450x550x650mm

重    量  70kg

升(sheng)溫速度  建議不超過20℃/min

產品(pin)特(te)點(dian)  可裝(zhuang)真空(kong)裝(zhuang)置，能在多種(zhong)氣氛下工作，50段程(cheng)序控溫

加(jia)熱(re)元件  含鉬(mu)電阻(zu)絲

常用溫度  ≤1100℃

溫度  1200℃

控溫方式  50段智能化程序PID模糊控制

恒溫精度  ±1℃

控(kong)溫儀表  智能溫控(kong)儀

密封方式  全封閉

爐    膛(tang)  氧化鋁(lv)多(duo)晶纖維(wei)爐膛(tang)，設(she)計合理，經久耐用，保溫性能好，節(jie)能

測溫(wen)元件  K型熱(re)電偶

爐門結構  上開式

真空極限 ≤0.1MPa

標準配件：一個，坩堝鉗1把，高溫手套1雙，使用說(shuo)明書(shu)1份。

可選配(pei)件(jian)：觸摸(mo)屏控制、無紙(zhi)記錄儀、遠程通訊控制系統(tong)。